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真空热压烧结炉主要用于半导体元器件及电力整流器件的烧结工艺，可进行真空烧结，气体保护烧结及常规烧结。是半导体专用设备系列中一种新颖的工艺装备，它设计构思新颖，操作方便，结构紧凑。
真空热压烧结炉是在抽真空后充氢气保护状态下，利用中频感应加热的原理，使处于线圈内的钨坩埚产生高温，通过热辐射传导到工作上，适用于科研、军工单位对难熔合金如钨、钼及其合金的粉末成型烧结。
因设备较复杂，建议专人使用，专人负责，对新手严格实行用前培训，用后检查，操作使用要有记录等设备使用规定。
炉外发生漏水，冷却水量异常时，应尽快采取应急措施，如能保证水量，请继续保持真空，如不能采取应急措施，保持原状，确认设备冷却下来。
冷却水发生异常时，设备处于停止状态，马上接通紧急用冷却水。
在高温(超过200℃即视为高温)时，如果冷却水停止了，如果不能紧急送水，水冷电极、换热器、真空室壳体及各泵可能被损坏。
真空烧结炉是在抽真空后充氢气保护状态下，利用中频感应加热的原理，使处于线圈内的钨坩埚产生高温，通过热辐射传导到工作上，适用于科研、军工单位对难熔合金如钨、钼及其合金的粉末成型烧结。
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